真空コーティング機の動作原理

真空成膜機は、基板表面に金属薄膜を成膜する装置です。その基本的な動作原理は、洗浄、蒸発、堆積の 3 つのステップに分かれています。
1. 清掃
蒸着の前に、蒸着チャンバーをクリーニングする必要があります。蒸着室の表面には酸化物、油分、ゴミなどが付着している場合があり、これらが膜の品質に影響を与えます。通常、洗浄には化学的または物理的方法が使用されます。
2. 蒸発
所望の材料をその融点以上に加熱すると、ガス状の分子が形成されます。次に、ガス状分子は真空チャンバー内で蒸発チャンバーに逃げます。このプロセスは蒸発と呼ばれます。温度、圧力、蒸発速度は、フィルムの組成、構造、特性に影響を与えます。
3. 堆積
蒸発チャンバー内の材料のガス状分子は、真空パイプを通って反応チャンバーに入り、活性材料と反応し、生成物を基板の表面に堆積させます。このプロセスは沈降と呼ばれます。温度、圧力、蒸着速度も膜の品質と性能に影響を与えます。
2. 申請
真空コーティング機は、材料科学、光学、エレクトロニクスなどの分野で広く使用されています。
1. 材料科学
真空コーティング機は、さまざまな金属、合金、酸化物、ケイ酸塩などの材料の薄膜を作製でき、コーティング、光学フィルム、光記憶装置、ディスプレイ、トランジスタなどの分野で広く使用されています。
2. 光学系
真空成膜機は、反射率の高い金属や合金のフィルムや、特殊な機能を持った光学フィルムを作製することができます。これらのフィルムは、ソーラーパネル、高性能電子顕微鏡、エアロゲル、UV/IRセンサー、光学フィルターなどの分野で使用できます。
3. エレクトロニクス
真空コーティング機は、ナノスケールの電子材料やマイクロ電子デバイスを製造できます。これらのフィルムは、ナノトランジスタ、磁気メモリ、センサー、その他の分野で使用できます。
つまり、真空成膜機はさまざまな薄膜材料を作製できるだけでなく、必要に応じて特殊な機能を備えた薄膜を作製することもできます。将来的には、真空コーティング技術がさらに普及し、促進されるでしょう。